德国SUSS LABSPIN 8TT台式旋涂显影一体机
LABSPIN 8TT 是德国 SUSS 面向高校实验室、企业研发中心推出的台式一体化匀胶 / 显影设备,属于 SUSS MicroTec Solutions 涂覆工艺产品线,集光刻胶旋涂、水坑式显影、边缘去胶功能于一体,用于微纳加工前期工艺开发与小批量基板试验。
技术参数:
转速范围50 - 8,000 rpm (使用200mm卡盘时精度为 ±1 rpm)
最大加速度最高 4,000 rpm/s (可编程调节)
工艺配方最多可存储 200 个配方,每个配方支持 40 个步骤
单步时间1 - 999 秒,可编程设定
控制系统彩色触摸屏图形界面
电机类型无刷EC电机,空心轴设计,集成透明液体分离器

应用场景:
半导体光刻工艺:用于6英寸及以下晶圆的正负性光刻胶均匀涂覆,是逻辑芯片、功率半导体等工艺研发的核心设备。
MEMS与微纳器件:在MEMS传感器、微流控芯片等制造中,用于制备绝缘膜、钝化膜等功能薄膜。
新材料与聚合物研究:适用于SU-8、PMMA等厚胶或特殊聚合物的工艺开发和薄膜沉积。
光电与化合物半导体:用于LED、激光芯片等器件的增透膜、保护胶涂覆
型号列表:
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SUSS LABSPIN 8
SUSS LABSPIN 8TT
SUSS LABSPIN 6
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德国SUSS LABSPIN 8TT台式旋涂显影一体机




